金相試樣製備過程一般包括：取樣、粗磨、細磨、拋光和浸蝕五個步驟。 

1）取樣 

從需要檢測的金屬材料和零件上截取試樣稱為“取樣”。取樣的部位和磨麵的選擇必須根據分析要求而定。截取方法有多種，對於軟材料可以用鋸、車、刨等方法；對於硬材料可以用砂輪切片機或線切割機等切割的方法，對於硬而脆的材料可以用錘擊的方法。無論用哪種方法都應注意，盡量避免和減輕因塑性變形或受熱引起的組織失真現象。試樣的尺寸並無統一規定，從便於握持和磨製角度考慮，一般直徑或邊長為15~20mm，高為12~18mm比較適宜。對那些尺寸過小、形狀不規則和需要保護邊緣的試樣，可以采取鑲嵌或機械夾持的辦法。 

金相試樣的鑲嵌，是利用熱塑性塑料(如聚氯乙烯)，熱凝性塑料(如膠木粉)以及冷凝性塑料(如環氧樹脂+固化劑)作為填料進行的。前兩種屬於熱鑲填料，熱鑲必須在專用設備一鑲嵌機上進行。第三種屬於冷鑲填料。 

2）粗磨 

粗磨的目的主要有以下三點： 

修整 有些試樣，例如用錘擊法敲下來的試樣，形狀很不規則，必須經過粗磨，修整為規則形狀的試樣； 

‚磨平 無論用什麽方法取樣，切口往往不十分平滑，為了將觀察麵磨平，同時去掉切割時產生的變形層，必須進行粗磨； 

ƒ倒角 在不影響觀察目的的前提下，需將試樣上的棱角磨掉，以免劃破砂紙和拋光織物。 

3）細磨 

粗磨後的試樣，磨麵上仍有較粗較深的磨痕，為了消除這些磨痕必須進行細磨。細磨，可分為手工磨和機械磨兩種， 目前機械磨是主要的磨樣方式。

目前普遍使用的機械磨設備是預磨機。電動機帶動鋪著水砂紙的圓盤轉動，磨製時，將試樣沿盤的徑向來回移動，用力要均勻，邊磨邊用水衝。水流既起到冷卻試樣的作用，又可以借助離心力將脫落砂粒、磨屑等不斷地衝到轉盤邊緣。機械磨的磨削速度比手工磨製快得多，但平整度不夠好，表麵變形層也比較嚴重。因此要求較高的或材質較軟的試樣應該采用手工磨製。

4）拋光 

拋光的目的是去除細磨後遺留在磨麵上的細微磨痕，得到光亮無痕的鏡麵。拋光的方法有機械拋光、電解拋光和化學拋光三種，其中常用的是機械拋光。  機械拋光在拋光機上進行，將拋光織物（粗拋常用帆布，精拋常用毛呢）用水浸濕、鋪平、繃緊並固定在拋光盤上。

啟動開關使拋光盤逆時針轉動，將適量的拋光液(氧化鋁、氧化鉻或氧化鐵拋光粉加水的懸浮液)滴灑在盤上即可進行拋光，拋光時應注意： 

試樣沿盤的徑向往返緩慢移動，同時逆拋光盤轉向自轉，待拋光快結束時作短時定位輕拋。 

‚)在拋光過程中，要經常滴加適量的拋光液或清水，以保持拋光盤的濕度，如發現拋光盤過髒或帶有粗大顆粒時，必須將其衝刷幹淨後再繼續使用。

ƒ拋光時間應盡量縮短，不可過長，為滿足這一要求可分粗拋和精拋兩步進行。

④拋有色金屬(如銅、鋁及其合金等)時，在拋光盤上塗少許肥皂或滴加適量的肥皂水。

5）浸蝕 

拋光後的試樣在無錫蜜桃APP软件下载下觀察，隻能看到光亮的磨麵，如果有劃痕、水跡或材料中的非金屬夾雜物、石墨以及裂紋等也可以看出來，但是要分析金相組織還必須進行浸蝕。 

浸蝕的方法有多種，常用的是化學浸蝕法，利用浸蝕劑對試樣的化學溶解和電化學浸蝕作用將組織顯露出來。 

純金屬(或單相均勻固溶體)的浸蝕基本上為化學溶解過程。位於晶界處的原子和晶粒內部原子相比，自由能較高，穩定性較差，故易受浸蝕形成凹溝。晶粒內部被浸蝕程度較輕，大體上仍保持原拋光平麵。在明場下觀察，可以看到一個個晶粒被晶界(黑色網絡)隔開。如浸蝕較深，還可以發現各個晶粒明暗程度不同的現象。這是因為每個晶粒原子排列的位向不同，浸蝕後，以較密排麵為主的外露麵與原拋光麵之間傾斜程度不同的緣故。 

經檢查後合格的試樣可以放在浸蝕劑中，拋光麵朝上，不斷觀察表麵顏色的變化。這是浸蝕法。也可以用沾有浸蝕劑的棉花輕輕擦拭拋光麵，觀察表麵顏色的變化。此為擦蝕法。待試樣表麵被浸蝕得略顯灰暗時即刻取出，用流動水衝洗後在浸蝕麵上滴些酒精，再用濾紙吸去過多的水和酒精，迅速用吹風機吹幹，完成整個製備試樣的過程。